无损检测系列-3D Micro-CL


型号:3D Micro-CL


产品概要

高分辨率三维显微CL(Computed Laminography)系统(3D Micro-CL),采用倾斜扫描方式解决了传统CT无法对板状物体进行高分辨率扫描成像的问题,具有自由度高、放大比可调、大视野、高分辨、快速重建等优点,可用于芯片封装、电路板、板状化石等物体的2D/3D无损检测。设备可应用于电子信息、航空航天等领域。

产品特性

性能参数

大视野拼接成像

GPU加速重建

辐射自屏蔽室、安全联锁

气孔率计算功能


检测尺寸

330mm × 330mm
扫描模式

二维透视成像(DR)

三维断层扫描(CL)

能量范围 40 – 160 kV
空间分辨率

二维透视成像(10%MTF-229lp/mm)

三维断层成像(优于10μm)

样本类型 芯片、化石、电路板、材料